在探測(cè)器制造加工工藝中，很多都涉及清洗技術(shù)，如芯片制作期間的基片清洗，外延生長(zhǎng)片的清洗，鍍膜加工前基片的清洗，以及濾光片等光學(xué)元件加工的清洗等。隨著科技的發(fā)展，半導(dǎo)體器件的生產(chǎn)對(duì)清潔度的要求越來(lái)越高。也不斷有復(fù)雜的新洗凈系統(tǒng)和設(shè)備投入使用。在光學(xué)儀器、精密機(jī)械以及電子機(jī)械領(lǐng)域也越來(lái)越多地需要精密工業(yè)清洗。無(wú)論是半導(dǎo)體薄膜的生長(zhǎng)還是基于半導(dǎo)體薄膜的器件制備，襯底的清洗和處理是必不可少的一個(gè)環(huán)節(jié)。
半導(dǎo)體襯底片是外延生長(zhǎng)以及后續(xù)工藝的基礎(chǔ)，襯底制備包括清潔處理等工藝，它的好壞直接影響外延和后續(xù)工藝，襯底成為光電子器件工藝的出發(fā)點(diǎn)，襯底的清洗分為化學(xué)清洗和物理清洗。不同的基底材料其清洗方法和流程各不相同，相同的材料應(yīng)用領(lǐng)域不一樣，對(duì)清潔的要求不同，清洗方法也不盡相同，即使是同種材料的同種用途，清洗方法也有各異。
對(duì)于鍍膜元件來(lái)說(shuō)，基底清潔程度是影響鍍膜產(chǎn)品質(zhì)量好壞的關(guān)鍵因素之一，保障元件鍍膜前表面高潔凈度，降低薄膜內(nèi)的雜質(zhì)污染物，鍍膜前元件的潔凈清洗至關(guān)重要?；M(jìn)入鍍膜室前，不管鍍層要求如何，均應(yīng)進(jìn)行認(rèn)真的鍍前處理(即清洗處理)，以達(dá)到去油、去污和脫水的目的，是提高膜層牢固度的重要措施。
濾光片鍍膜工藝常用清洗方法-超聲波清洗法
超聲波清洗的主要作用機(jī)理是超聲空化作用、超聲空化二階效應(yīng)產(chǎn)生的微聲流的洗刷作用，以及超聲空化在固體和液體界面所產(chǎn)生的高速微射流的沖擊作用，促進(jìn)洗液的化學(xué)物理反應(yīng)效果，從而除去污染物的一種有效的清洗方法，是一種高速、高質(zhì)量、易實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化的清洗技術(shù)。濾光片真空鍍膜加工對(duì)基底表面清潔度要求較高，超聲波清洗技術(shù)是使基底表面能達(dá)到鍍膜所需清潔度要求的為理想的技術(shù)之一。
與其他清洗方法相比，超聲波清洗具有洗凈率高、殘留物少、清洗時(shí)間短、清洗效果好等優(yōu)點(diǎn)。為了達(dá)到更好的超聲清洗效果，根據(jù)污染物種類(lèi)的不同，需選擇合適的超聲頻率和不同的清洗介質(zhì)。濾光片基底在鍍膜前的超聲清洗選擇的頻率多在(20～80)kHz范圍的超聲，對(duì)于超聲清洗介質(zhì)，可以按以下準(zhǔn)則選取，表面張力小，對(duì)超聲波衰減小，對(duì)油脂的溶解能力大，無(wú)害物質(zhì)，選擇去離子水、中性清洗劑、異丙醇、丙酮等。鍍膜前濾光片超聲波清洗過(guò)程中，為達(dá)到更好的清洗效果，常對(duì)媒介進(jìn)行一定程度的升溫。
在光學(xué)濾光片鍍膜前的清洗過(guò)程中，多采用某種清洗劑等化學(xué)試劑進(jìn)行擦拭、超聲波清洗和汽相清洗等方法，以滿足濾光片基底鍍膜前的清潔要求。綠色高效低成本的清洗技術(shù)是一種趨勢(shì)，也是整個(gè)清洗行業(yè)的一個(gè)趨勢(shì)。
