在探測器的制造過程中，許多都涉及到清洗技術(shù)，如芯片制造過程中的基片清洗、延伸生長片清洗、涂裝加工前的基片清洗、濾光片等光電器件加工清洗等。隨著科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步，半導(dǎo)體設(shè)備的生產(chǎn)對清潔度的要求越來越高。復(fù)雜的新洗滌系統(tǒng)和設(shè)備不斷投入使用。在光學(xué)設(shè)備、精密機(jī)械及其電子機(jī)械行業(yè)也越來越需要精密工業(yè)清洗。無論是半導(dǎo)體薄膜生長還是基于半導(dǎo)體薄膜的裝置，襯底的清洗和處理都是必不可少的環(huán)節(jié)。半導(dǎo)體襯底片是延伸生長及其后續(xù)工藝的基礎(chǔ)。襯底制作包括清洗解決方案等工藝。其質(zhì)量與延伸和后續(xù)工藝直接相關(guān)。襯底已成為光電器件工藝的立足點(diǎn)。襯底的清洗分為化學(xué)清洗和物理清洗。不同的基礎(chǔ)材料有不同的清洗方法和工藝，不同的材料應(yīng)用領(lǐng)域，不同的清洗要求，不同的清洗方法，即使相同的材料有不同的清洗方法。
對于涂層元件，基礎(chǔ)清洗水平是決定涂層產(chǎn)品質(zhì)量的關(guān)鍵因素之一，保證涂層前表面的高清潔度，減少涂層中的雜質(zhì)污染物。涂層前元件的清潔和清潔尤為重要。在基板進(jìn)入涂層室之前，無論涂層規(guī)定如何，都應(yīng)進(jìn)行認(rèn)真的涂層預(yù)處理（即清洗解決方案），以達(dá)到去除油、去污和干燥的目的，是提高涂層牢固度的主要對策。
超聲波清洗的重要作用機(jī)制是超聲空化、超聲空蝕二階效應(yīng)產(chǎn)生的微聲流刷洗效果，以及固液頁面超聲空蝕形成的高速微射流沖擊效果，促進(jìn)洗滌劑的化學(xué)物理反應(yīng)效果，然后去除污染物，是一種高速、高質(zhì)量、易于完成自動清洗技術(shù)。濾光片真空涂層加工對基底表面清潔度要求較高，超聲波清洗技術(shù)是使基底表面滿足涂層所需清潔度要求的理想技術(shù)之一。與其他清洗方法相比，超聲波清洗具有清洗率高、殘留物少、清洗時間短、清洗效果好等優(yōu)點(diǎn)。為了達(dá)到更好的超聲清洗效果，根據(jù)污染物種類的不同，需要選擇合適的超聲頻率和不同的清洗材料。涂層前濾光片基礎(chǔ)超聲清洗選擇頻率多為(20~80)kHz超聲范圍，對于超聲清洗材料，可按以下標(biāo)準(zhǔn)選擇，界面張力小，超聲波衰減小，油溶解度大，無害物質(zhì)，選擇去離子水、中性清洗劑、異丙醇、甲苯等。為了達(dá)到更好的清洗效果，經(jīng)常在一定程度上加熱媒體。
在光學(xué)濾光片涂層前的清洗過程中，經(jīng)常使用某種清洗劑和其他化學(xué)物質(zhì)進(jìn)行擦洗、超聲波清洗和蒸汽相清洗，以適應(yīng)濾光片基礎(chǔ)涂層前的清洗規(guī)定。綠色、高效、低成本的清洗技術(shù)是整個清洗行業(yè)的趨勢。
