薄膜的激光損傷與薄膜的微缺陷密切相關(guān)。微缺陷是薄膜激光損傷的主要原因。絕大多數(shù)激光損傷始于薄膜的缺陷點(diǎn)，并逐漸向外發(fā)展。因此，在系統(tǒng)的高通量運(yùn)行中，光學(xué)元件表面留下的雜質(zhì)污染物會(huì)產(chǎn)生雜質(zhì)缺陷或涂層后節(jié)瘤缺陷，從而導(dǎo)致玻璃或涂層表面的高拋光損傷，降低光學(xué)元件的損傷閥值。此外，光學(xué)元件表面殘留的有機(jī)污染物不僅表面殘留的有機(jī)污染物不僅能產(chǎn)生有機(jī)吸收和熱鏡片，降低損傷閥值，還能降低光學(xué)元件膜層的附著力。因此，有了神光-Ⅲ需要更高的通量，光學(xué)元件具有更高的激光損傷閥值，這就要求光學(xué)元件具有更高的清潔度。
因此，光學(xué)元件在加工過(guò)程中和涂涂層前進(jìn)行清潔，以確保元件表面的高清潔度，并提高元件的抗激光損傷能力。為了確保清潔方法在實(shí)際加工中的有效性，并確保清潔方法對(duì)光學(xué)元件具有高效的清潔能力，而不破壞光學(xué)元件。近年來(lái)，國(guó)內(nèi)外發(fā)展了許多新的清潔技術(shù)，如機(jī)械清潔技術(shù)、冰清潔技術(shù)、激光清潔技術(shù)、超聲波和兆聲波清潔技術(shù)，其中在光學(xué)元件清潔行業(yè)，超聲波清潔技術(shù)作為一種高效、高清潔的清潔方法開始逐漸取代手動(dòng)清潔。
超聲波清洗應(yīng)在特殊的超聲波清洗機(jī)中進(jìn)行。超聲波清洗機(jī)的獨(dú)特優(yōu)點(diǎn)是，它就像一把精致的小刷子，穿刺力強(qiáng)，夾在手無(wú)法觸及的小洞穴和角落區(qū)域的污垢中。在清洗液中，超聲波振動(dòng)形成的空化作用迅速松動(dòng)脫落。超聲波清洗是將工件懸掛在裝有清洗液的清洗槽中，根據(jù)超聲波換能器將超聲波產(chǎn)生器發(fā)出的電信號(hào)轉(zhuǎn)化為超聲波振動(dòng)，引入液體，使污漬在超聲波作用下脫落，達(dá)到清洗的目的。
根據(jù)光學(xué)元件表面污染物的物理特性，污染物可分為有機(jī)物、復(fù)合物和無(wú)機(jī)物。
超聲波清洗效果與清洗液的溫度和濃度、清洗頻率、超聲波功率等工藝參數(shù)密切相關(guān)。超聲波頻率與待清洗污染物顆粒的大小直接相關(guān)：超聲波頻率越小，腐蝕氣泡越多，清洗污染物顆粒越多，超聲波頻率越大，清洗污染物顆粒越小。
光學(xué)元件超聲清洗規(guī)定去除超過(guò)1μm必須使用超過(guò)170種無(wú)機(jī)污染物顆粒KHZ只有當(dāng)頻率達(dá)到潔凈度規(guī)定時(shí)。因此，選擇頻率為40、80、120、140、170、220、270KHz復(fù)頻多槽(清洗槽、噴淋槽、浸洗槽、干燥槽)超聲波清洗機(jī)清洗光學(xué)元件。
