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在超聲波清洗中，當(dāng)超聲波清洗到一定頻率后仍不能達(dá)到滿意的清洗效果時(shí)，如果工件上要去除的雜質(zhì)顆粒較大，則可能是超聲波功率不足。一般增大超聲波功率即可解決問題；但相反，如果工件上要去除的雜質(zhì)顆粒很小，無(wú)論功率怎么增加，都達(dá)不到清潔要求。

原因是當(dāng)液體流過工件表面時(shí)，會(huì)形成一層粘性薄膜。在低頻時(shí)，粘性薄膜一般很厚，里面埋有小顆粒。無(wú)論超聲波功率(強(qiáng)度)多高，空化氣泡都無(wú)法與小顆粒接觸，因此無(wú)法去除小顆粒；而當(dāng)超聲波頻率升高時(shí)，粘性膜的厚度會(huì)減少，超聲波產(chǎn)生的空化氣泡可以接觸到小顆粒，將它們從工件表面剝離。因此，低頻超聲去除大顆粒雜質(zhì)的效果很好，但去除小顆粒雜質(zhì)的效果很差。與此相反，則是高頻超聲波對(duì)去除小顆粒雜質(zhì)特別有效。

一般來(lái)說(shuō)，28KHZ頻率的清洗機(jī)多用于清洗五金、機(jī)械、汽摩、壓縮機(jī)等行業(yè)。光學(xué)光電清洗、線路板清洗等多使用40KHZ的頻率。高頻超聲波清洗機(jī)適用于電腦、微電子元件的精細(xì)清洗。兆赫超聲波清洗適用于集成電路芯片、硅片、波片的清洗，可去除微米級(jí)、亞微米的污垢不會(huì)對(duì)清洗部件造成任何損傷。對(duì)于一些清洗應(yīng)用(如液晶、半導(dǎo)體等)，使用傳統(tǒng)頻率不僅不能滿足清洗要求，而且可能對(duì)工件造成損壞。