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全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)已步入成熟期。未來10年半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)年均增長率放緩。手機和消費類電子產(chǎn)品將是推動未來半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)增長的主動力。未來半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)將是獨立半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的天下。未來半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的整合、兼并將越演越烈。未來半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)會越來越受到關(guān)注。例如：半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)是硅材料工業(yè)，因為硅片表面的污染物會嚴重影響器件的性能、可靠性、和成品率。隨著微電子技術(shù)的飛速發(fā)展以及人們對原料要求的提高，污染物對器件的影響也愈加突出，清洗技術(shù)在半導(dǎo)體行業(yè)越來越重要。

以前傳統(tǒng)的浸洗、刷洗、壓力沖洗、振動清洗和蒸氣清洗，這些清洗方法都很容易破壞半導(dǎo)體表面，而且半導(dǎo)體制程中重復(fù)次數(shù)多的工序，清洗效果的好壞較大程度的影響芯片制程及積體電路特性等質(zhì)量問題。在所有的清洗方式中全自動超聲波清洗機對半導(dǎo)體的清洗效率高、效果好的一種，之所以超聲波清洗能夠達到如此的效果是與它獨特的工作原理和清洗方法密切相關(guān)的。

我們知道，半導(dǎo)體外形比較復(fù)雜，孔內(nèi)小，利用全自動超聲波清洗機的效率高和高清潔度，得益于其聲波在介質(zhì)中傳播時產(chǎn)生的穿透性和空化沖擊疚，所以很容易將帶有復(fù)雜外形，內(nèi)腔和細空清洗干凈，在超聲波作用下只需兩三分鐘即可完成，其速度比傳統(tǒng)方法可提高幾倍，甚至幾十倍，清潔度也能達到高標準，提高了對半導(dǎo)體的生產(chǎn)效率，更突出顯示了用其他處理方法難以達到或不可取代的結(jié)果。

全自動超聲波清洗機在運轉(zhuǎn)時有哪些注意事項？

假使全自動超聲波清洗機操作不當，將危害清洗設(shè)備的一切正常實際操作和應(yīng)用，為了很好地保證清洗設(shè)備具體應(yīng)用的實際效果，能夠沒有過相同層次的認識，包括全自動超聲波清洗機的功率、超聲波頻率機溫及其他因素，應(yīng)用清洗設(shè)備溫度越高，對污漬溶解越有利，但當溫度達到一定的范圍，則會危害清洗設(shè)備的超聲波功效，降低清洗的實際效果。

清潔設(shè)備的清理時間越長，實際清理效果越好，除材料外，還有許多因素會造成危害，如清潔液的種類和污漬，應(yīng)用大功率的清潔劑來清洗不能清洗的部件，而應(yīng)用小功率的精細部件，頻率越低蒸發(fā)越好，頻率越高實際效果越好，對于簡單的表面層應(yīng)用低頻，對于繁雜的表層和深孔，要用大功率清潔劑來清洗，因為大功率清潔劑使用時，會發(fā)出滲漏聲，而且清潔劑很容易清洗。

在全自動超聲波清洗機工作時，盡可能不必上升溫度以避免一切正常運作，務(wù)必操縱清潔劑的安全系數(shù)，禁止在超聲波清洗機中出現(xiàn)別的異常物件，應(yīng)常常維護和保養(yǎng)全自動超聲波清洗機，有臟東西落入罐底應(yīng)該馬上刪掉，變更或排盡清潔液要開展設(shè)備維護保養(yǎng)清洗用品在室內(nèi)溫度下的罐里。

當全自動超聲波清洗機一切正常工作時，應(yīng)聽見超音波和儲罐的勻稱響聲，不拌和清潔液的表層，只有在掃出氣孔造成的灑水，在確保清理物件清理的前提條件下，盡量不加溫和間歇性，工作中由于加溫和長期超聲波會提升儲水箱內(nèi)的溫度。