薄膜的激光損傷與薄膜的微缺陷密切相關。微缺陷是薄膜激光損傷的主要原因。絕大多數(shù)激光損傷始于薄膜的缺陷點,并逐漸向外發(fā)展。因此,在系統(tǒng)的高通量運行中,光學元件表面留下的雜質(zhì)污染物會產(chǎn)生雜質(zhì)缺陷或涂層后節(jié)瘤缺陷,從而導致玻璃或涂層表面的高拋光損傷,降低光學元件的損傷閥值。此外,光學元件表面殘留的有機污染物不僅表面殘留的有機污染物不僅能產(chǎn)生有機吸收和熱鏡片,降低損傷閥值,還能降低光學元件膜層的附著力。因此,有了神光-Ⅲ需要更高的通量,光學元件具有更高的激光損傷閥值,這就要求光學元件具有更高的清潔度。
因此,光學元件在加工過程中和涂涂層前進行清潔,以確保元件表面的高清潔度,并提高元件的抗激光損傷能力。為了確保清潔方法在實際加工中的有效性,并確保清潔方法對光學元件具有高效的清潔能力,而不破壞光學元件。近年來,國內(nèi)外發(fā)展了許多新的清潔技術,如機械清潔技術、冰清潔技術、激光清潔技術、超聲波和兆聲波清潔技術,其中在光學元件清潔行業(yè),超聲波清潔技術作為一種高效、高清潔的清潔方法開始逐漸取代手動清潔。
超聲波清洗應在特殊的超聲波清洗機中進行。超聲波清洗機的獨特優(yōu)點是,它就像一把精致的小刷子,穿刺力強,夾在手無法觸及的小洞穴和角落區(qū)域的污垢中。在清洗液中,超聲波振動形成的空化作用迅速松動脫落。超聲波清洗是將工件懸掛在裝有清洗液的清洗槽中,根據(jù)超聲波換能器將超聲波產(chǎn)生器發(fā)出的電信號轉(zhuǎn)化為超聲波振動,引入液體,使污漬在超聲波作用下脫落,達到清洗的目的。
根據(jù)光學元件表面污染物的物理特性,污染物可分為有機物、復合物和無機物。
超聲波清洗效果與清洗液的溫度和濃度、清洗頻率、超聲波功率等工藝參數(shù)密切相關。超聲波頻率與待清洗污染物顆粒的大小直接相關:超聲波頻率越小,腐蝕氣泡越多,清洗污染物顆粒越多,超聲波頻率越大,清洗污染物顆粒越小。
光學元件超聲清洗規(guī)定去除超過1μm必須使用超過170種無機污染物顆粒KHZ只有當頻率達到潔凈度規(guī)定時。因此,選擇頻率為40、80、120、140、170、220、270KHz復頻多槽(清洗槽、噴淋槽、浸洗槽、干燥槽)超聲波清洗機清洗光學元件。
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